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氮化铝靶材AlN磁控溅射靶材氮化铝靶材AlN氧化铟锡靶材
科研实验*氮化铝靶材AlN磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料产品介绍氮化铝（AlN）属类金刚石氮化物、六方晶系，纤锌矿型的晶体结构，无毒，呈白色或灰白色，是共价键化合物，原子晶体。

氮化铝应用於光电工程，包括在光学储存介面及电子基质作诱电层，在高的导热性下作晶片载体，以及作**事用途。

由于氮化铝压电效应的特性产品参数中文名氮化铝沸点 2249 化学式 AlN 熔点 2200℃ 密度 3.235g/cm3 纯度 99.99% 产品介绍 ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡，ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标：电阻率和透光率。

多用于触控面板、触摸屏、冷光片等。

产品参数中文名氧化铟锡化学式 In2O3-SnO2 分子量 428.343 熔点 287℃ 密度 1.2g/ml 纯度 99.99% 支持合金靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。

科研单位货到付款，*，售后无忧！产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。

加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库标签：北京市氮化铝靶材北京市氮化铝靶材厂家
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